刘本伟不屑一顾。
“王总,我跟你说这句话是实事求是的,浸没式光刻技术在七八年前就有立项,其中的困难跟你说,你也不清楚。
我只想说明一点,有那个精力研究浸没式光刻机,把精力投到紫光激光光源上,效果会好的多。”
来在这个时代,大家的普遍意识就是,搞浸没式光刻机是条绝路。
王岸然深吸一口气,犟鸭子嘴硬的科研人员太多了,自己当初也是他们的一员,跟刘本清生气,就是跟自己生气。
这些人要是犯气牛脾气来,能把天捅破,唯一的解决之道,就是以德服人,哦,不,是以理服人。
“超高纯度折射率液体,往往水里有一粒微尘,或者一个气泡,或者多了一些离子,都可能对加工造成巨大的影响。
再加上高纯水浮在晶片上,目前的光刻胶中的分子会溶进水中,造成液体介质污染,刘教授,我说的没错吧”
刘本清在王岸然说第一句话的时候就愣住了,什么情况,他懂。
待到王岸然将两大技术难点合盘而出,刘本清说道“王总,你”
王岸然装着没见,背过身,继续说道“除了两大问题,在实际操作中,也会面临平台的稳定性,校准系统,曝光时间等问题,需要按每台机器的类型多次调试”
刘本清想给王岸然竖个大拇指,说一声牛,这些资料可不怎么容易找到。
“王总,既然你知道浸没式光刻机的缺陷,还需要继续坚持吗”
王岸然点点头,说道“为什么不刘教授,高纯水介质我们可以自己研发也可以跟外国合作,厌水光刻胶我们也可以这么办,当然,也可以考虑在光刻胶上再喷一道绝水薄膜,没有试过,怎么知道不行”
“我们试过很多种办法”
“那就再试,试到解决为止”
王岸然毫不客气,作为投资人,他是来发布命令的,而不是跟你讨价还价。
浸没式光刻机肯定是未来的方向,而且波长越长,通过折射后,缩微的效果越明显。
况且,光刻机的波长并能完全决定芯片的制程,通过特定的曝光方式也可以提高制程。
事实证明,193纳米的紫光光源,也可以进行65纳米芯片工艺的生产。
以前世对半导体芯片制造的理解,浸没式光刻,多重曝光方式能够取得进步的话,完全可以将这台东芝的二手货,改造成一台可以生产800纳米工艺的芯片加工厂,甚至更为先进的320纳米工艺也不是不可能。
只不过芯片生产的效率,肯定会差很多,但至少说明一点,我们掌握了这项技术。
而且通过这一过程,华芯科技还可以积累这部分的专利,在as前面设置一套专利壁垒。
至于这套专利有什么用,王岸然无法评估,按照他的估计,到那个时候,美利坚政府应该也会插手吧
还有五年的时间,王岸然在纸上写下磁悬浮双工作台,浸没式光刻系统,两大未来发展方向。
这次他不打算,光靠国内研究机构的力量。
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